科研成果

一种用于光刻技术的无机热阻膜

专利名称: 一种用于光刻技术的无机热阻膜
英文名称: An Inorganic Thermal Resist Used in Lithography
专利类别: 发明专利
申请号: 200710065293.1
申请日期: 2007-04-10
授权日期:
专利号:
第一发明人: 刘前
其它发明人: 曹四海 郭传飞 李晓军
国外申请日期:
国外申请方式:
专利授权日期:
缴费情况:
实施情况:
专利证书号:
专利摘要:
其它备注:
   

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