科研成果

带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜

专利名称: 带有氧化物掩模的局域微缩光刻膜
英文名称: Structure of Micro-focused Flms with Oxide Mask for Lithography
专利类别: 发明专利
申请号: 200710065294.6
申请日期: 2007-04-10
授权日期:
专利号:
第一发明人: 刘前
其它发明人: 曹四海 郭传飞 李晓军
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实施情况:
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专利摘要:
其它备注:
   

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